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氬離子拋光儀的技術(shù)原理及主要功能
點(diǎn)擊次數(shù):3665 更新時(shí)間:2021-11-11
氬離子拋光儀利用氬離子拋光技術(shù),通過離子束對(duì)樣品表面進(jìn)行削平拋光處理,以便利用掃描電鏡等顯微觀察工具觀察樣品表面的微觀特征。
氬離子拋光儀的原理:
氬離子拋光技術(shù)是對(duì)樣品表面進(jìn)行拋光,去除損傷層,從而得到高質(zhì)量樣品,用于在掃描電鏡,光鏡或者掃描探針顯微鏡上進(jìn)行成像、EDS、EBSD、CL、EBIC或其它分析。針對(duì)不同的樣品的硬度,設(shè)置不同的電壓、電流、離子槍的角度、離子束窗口,控制氬離子作用的深度、強(qiáng)度、角度、這樣較ng準(zhǔn)的參數(shù),有利于制備成研究者理想的材料樣品,這樣的樣品不僅表面光滑無損傷,而且還原材料內(nèi)部的真實(shí)結(jié)構(gòu),正如頁巖內(nèi)部的細(xì)微孔隙在掃描電鏡下放大到10K時(shí)也能看得清清楚楚,以及材料內(nèi)部的不同物質(zhì)分層都能看的分界線明顯。
氬離子拋光儀的切割和拋光兩項(xiàng)功能:
①配溫控液氮冷卻臺(tái),去除熱效應(yīng)對(duì)樣品的損傷,有助于避免拋光過程中產(chǎn)生的熱量而導(dǎo)致的樣品融化或者結(jié)構(gòu)變化;
?、谂涮?鉻鍍膜,對(duì)于同一個(gè)樣品,可在同一真空環(huán)境下完成拋光及鍍膜,防止樣品氧化,可以用于SEM/FIB導(dǎo)電鍍膜樣品制作。
氬離子拋光在材料制樣的特出優(yōu)點(diǎn):
?、賹?duì)由硬材料和軟材料組成的復(fù)合材料樣品,能夠很精細(xì)地制作軟硬接合部的截面,而使用傳統(tǒng)方法制樣是很困難的。
?、诒菷IB方法的拋光面積更大(~1mm以上)。
氬離子拋光儀可以運(yùn)用于各種材料樣品(除了液態(tài))的制備,適應(yīng)大多數(shù)材料類型,對(duì)大面積、表面或輻照及能量敏感樣品尤佳:鋼鐵、地質(zhì)、油頁巖、鋰離子電池、光伏材料、薄膜、半導(dǎo)體、EBSD、生物材料等包括平面拋光與截面拋光。