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Leica EM ACE200真空鍍膜儀的技術(shù)參數(shù)
點(diǎn)擊次數(shù):903 更新時(shí)間:2022-05-24
真空鍍膜儀主要用來在非導(dǎo)電材料表面蒸發(fā)或者濺射沉積納米導(dǎo)電薄膜,用來提高樣品的表面導(dǎo)電性能,同時(shí)由于厚度僅為幾個(gè)納米,可以很好保持樣品原始的表面形貌。
Leica EM ACE200是一款低真空鍍膜儀,可以選擇離子濺射鍍金屬膜或者碳絲蒸發(fā)鍍碳膜功能,或者同時(shí)具有這兩種功能。能夠滿足日常SEM需求,也可用于X-射線能譜及波譜分析,或者TEM銅網(wǎng)鍍碳膜。全自動(dòng)電腦控制,自動(dòng)完成抽真空,鍍膜,放氣等全過程,一鍵操作。采用當(dāng)下非常流行的觸摸屏控制,簡(jiǎn)單方便。
主要技術(shù)參數(shù):
· 可任選離子濺射模式、碳絲蒸發(fā)鍍碳模式,或者雙模式,可選輝光放電(用于網(wǎng)格表面親水化)
· 設(shè)計(jì)脈沖式碳絲蒸發(fā)方式,可精確控制碳膜厚度
· 可選石英膜厚檢測(cè)器,精確控制鍍膜厚度,精度達(dá)0.1nm
· 全自動(dòng)程序控制,自動(dòng)完成抽真空,鍍膜,放氣等過程
· 觸摸屏控制,簡(jiǎn)單方便
· 真空度7×10-3mbar
· 濺射電流:0-150mA可調(diào)
· 方形樣品倉(cāng)設(shè)計(jì),樣品倉(cāng)尺寸:140mm(寬)×145mm(深)×150mm(高)
· 工作距離調(diào)節(jié)范圍:30mm-100mm